Zur Zeit entwickeln wir auf Basis unserer rotation stage ein Ellipsometer.
Als Lichtquelle kommen singlemode Laser zum Einsatz, sodass Messungen im Bereich 670 nm bis 10 μm möglich sind. Ein Ellipsometer bestimmt gleichzeitig Schichtdicke und Brechungsindex von dünnen Schichten. Es ist ein unverzichtbares Werkzeug bei der Analyse von Coatings und zur Prozessüberwachung.
Die Benutzeroberfläche wird erweiterbare gestaltet, sodass beliebige Schichtsysteme modelliert werden können.

• Schichtdickenbestimmung auf Nanometer genau
• Brechungsindexbestimmung auf drei Nachkommastellen genau
• diskrete Messungen bei jeder Wellenlänge zwischen 0.76 μm und 10 μm. Beliebig viele Wellenlängen kombinierbar
• automatisches stepping bis 6" Wafer
• elektronische Anbindung an Qualitätssicherung des Kunden
  ⇒ automatische Prozesskontrolle möglich

Es besteht die Möglichkeit, schon im Entwicklungsprozess auf Kundenwünsche einzugehen und ein Gerät entsprechend zu individualisieren.

Wenn Sie Interesse haben, informieren wir Sie gerne weiter unter